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日本原装,ORC非接触式对准曝光装置,EXF-1850,
ORC,非接触式对准曝光装置EXF-1850。
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日本京都玉崎株式会社/深圳市京都玉崎电子有限公司
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日本ORC,光源用设备,液晶制造设备,非接触式对准曝光装置;
orc非接触式对准曝光装置,EXF-1850。
カラーフィルタ、カラーSTN又は、有機EL製造に適した露光装置です。高精度光光源を搭載し、ガラス基板に非接触で且つ、高精度にアライメントを実行します。また、マスクとガラス基板の温度管理により高精細パターンの露光が可能な一括露光装置です。
特 徴:
1. 高精度の平行光光学系を採用。
2. ガラス基板に非接触且つ、高精度にアライメントが可能。
3. ギャップセンサによりマスクに非接触でプロキシミティギャップを実現。
4. マスクと基板を温調管理し、その伸縮による露光精度への影響を最小化。
5. ガラス基板の搬送にクリーンな搬送機構を採用?メンテナンスフリー化。
6. 4KWのショートアークUVランプで高照度を実現。
型号:EXF-1850
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