数量 | 价格 |
---|---|
≥ 1 | 电议 |
、应用领域
1.抛光:用于制备CMP抛光液,用于硅单晶片、砷化镓片、蓝宝石晶片、半导体化合物晶片、硬盘盘片、宝石、液晶玻璃、镜头、金属表面等产品的抛光。
2.催化剂载体、数码印刷等。
二、性能指标
指标名称
型号及标准
LS30
LS60
LS80
LS100
LS140
粒径(nm)
20-40
60-80
80-100
100-120
140-160
SiO2含量(重量)
30-40%
30-50%
Na2O含量(重量)
≤0.4%
分散介质
水
pH值
2-11可调
分散状态
单分散
胶粒形态
球型
保质期(月)
≥12
三、产品特点
1.粒径分布窄(±10nm),球形胶粒,结构致密。
2.纯度高,金属离子含量低。
3.可根据用户要求设定粒径大小、浓度、PH值、离子含量等指标。
免责声明:以上信息由会员自行提供,内容的真实性、准确性和合法性由发布会员负责。五金机械网对此不承担任何责任。
友情提醒:为规避购买风险,建议您在购买相关产品时,优先选择金牌会员。